真空泵（高真空）涡轮分子泵

ULVAC爱发科 应用与客户案例

真空泵（高真空）涡轮分子泵 

什么是涡轮分子泵？

涡轮分子泵是一种由带有涡轮形叶片的转子（动叶片）和定子（定叶片）组成的分子泵。

涡轮分子泵的特点

涡轮分子泵由高速旋转的转子叶片和保持静止的固定叶片组成。转子以每秒数万次的速度旋转，并可能因大气中的应力（阻力）而损坏。

因此涡轮分子泵必须在一定的真空度下使用，因而需要干泵或油旋片真空泵等辅助泵。

【优点】在分子流区域，排气速度恒定，可以连续排气。

【缺点】高速旋转时要注意**。

涡轮分子泵的工作原理

涡轮分子泵具有交替排列的旋转叶片和静止叶片。进入进气口的气体分子被快速旋转的转子叶片赋予动量，并被送往下级。通过多个压缩阶段，气体分子被压缩并被排出废气。

涡轮分子泵的主要应用

半导体制造设备、沉积设备、溅射设备、分析设备、蚀刻设备、加速器、FPD制造设备等。

‌光刻机、‌薄膜沉积设备、‌刻蚀设备、‌离子注入设备、‌化学气相沉积（CVD）、‌物**相沉积（PVD）、‌退火与扩散等。

光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础。

薄膜沉积指在晶圆表面生成多种薄膜，这些薄膜可以是绝缘体、半导体或导体。它们由不同的材料组成，是使用多种工艺生长或沉积的。通用的沉积技术有化学气相淀积（CVD）、蒸发和溅射PVD。一般采用以磁悬浮分子泵为主的无油真空系统。

离子注入设备：离子注入是指在真空环境下，当离子束射向固体材料时，受到固体材料的抵抗而速度慢慢减低下来，并*终停留在固体材料中的现象。离子注入是半导体表面附近区域进行掺杂的主要技术，其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型。

刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程。刻蚀的基本目标是在涂胶的硅片上正确地复制掩膜图形。现代化的干法刻蚀设备包括复杂的机械、电气和真空系统，同时配有自动化的刻蚀终点检测和控制装置。刻蚀应用工况复杂，清洁性差，充入特种气体种类繁多，因此需要特殊处理的干泵和磁悬浮分子泵。

应用行业：

电子电气领域、半导体领域、医疗领域、光学仪器行业、冶金领域、真空镀膜技术、航空航天领域等。

广泛应用于镀膜、电子、半导体、太阳能、真空炉、化工、离子刻蚀、光盘制造、制灯、航空航天、核能源等相关行业和教学、科研单位。

1 电子电气‌：在电子电气领域，涡轮分子泵常用于离子注入机、光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备等半导体制造设备中，帮助实现高真空环境，从而提高制造精度和产品质量‌。

2 ‌医疗‌：在医疗领域，涡轮分子泵可用于医疗设备的制造，如负压吸引系统等，同时也在医药制造中发挥重要作用‌。

3 ‌光学仪器‌：涡轮分子泵在光学仪器中应用广泛，包括质谱分析、电子显微镜等设备，提供必要的真空条件，确保设备的正常运行和**测量‌。

4 ‌航空航天‌：在航空航天领域，涡轮分子泵用于飞机发动机系统，确保发动机在高空中的稳定运行‌。

5 ‌金属冶炼‌：在冶金领域，涡轮分子泵可用于抽取金属溶液中的气体，提升金属纯度‌。

6 ‌真空镀膜技术‌：涡轮分子泵在真空镀膜技术中应用广泛，用于表面保护、装饰涂层、显示技术等‌。

7 ‌科研设施‌：在科研设施中，涡轮分子泵用于核粒子物理学、核聚变研究、激光应用等高能物理和科研项目中，提供清洁的超高真空环境‌。

此外，涡轮分子泵还广泛应用于太阳能、真空炉、离子刻蚀、光盘制造、制灯、核能源等相关行业和教学、科研单位‌。