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如何规避真空腔体释气污染?BellowsTech 边缘焊接波纹管设计
日期:2026-08-18 23:01
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摘要:摘要
半导体薄膜沉积 PVD、CVD、刻蚀、离子注入等设备的超高真空腔体内部,对密封元件提出极低漏率、无析出、大补偿行程、长循环寿命的严苛要求。普通橡胶密封、液压成型波纹管,容易出现有机物释气、行程不足、疲劳开裂等问题,直接影响腔体真空度,造成晶圆工艺污染、批次报废。BellowsTech 隶属于 MW Components 集团,专注边缘焊接金属波纹管研发制造,依靠超薄膜片激光边缘焊接工艺,实现全金属气密密封、大行程伸缩、低弹簧刚度,广泛用于半导体薄膜设备真空馈通、阀杆密封、升降基座、机械手位移补偿、束线组件,为 UHV 超...
摘要
半导体薄膜沉积 PVD、CVD、刻蚀、离子注入等设备的超高真空腔体内部,对密封元件提出极低漏率、无析出、大补偿行程、长循环寿命的严苛要求。普通橡胶密封、液压成型波纹管,容易出现有机物释气、行程不足、疲劳开裂等问题,直接影响腔体真空度,造成晶圆工艺污染、批次报废。BellowsTech 隶属于 MW Components 集团,专注边缘焊接金属波纹管研发制造,依靠超薄膜片激光边缘焊接工艺,实现全金属气密密封、大行程伸缩、低弹簧刚度,广泛用于半导体薄膜设备真空馈通、阀杆密封、升降基座、机械手位移补偿、束线组件,为 UHV 超高真空薄膜制程提供精密柔性密封解决方案。
1 边缘焊接波纹管工艺原理
BellowsTech 产品采用超薄金属膜片单片冲压成型,膜片内外圆周边缘通过精密激光焊接叠合组成波纹管本体,区别于传统液压胀型波纹管。单张膜片厚度可低至 0.051mm,多层叠加可实现耐压升级。依靠膜片自身形变完成轴向伸缩、角向偏转、径向偏移三维位移补偿,无需内部滑动结构、无润滑介质,整机全金属构造,不存在橡胶件释气污染风险,适配超高真空薄膜工艺腔体环境。
制造流程包含膜片精密裁切、表面处理、自动化激光边缘焊接、组件焊接装配、氦质谱检漏、疲劳循环验证全流程管控。每一件波纹管成品执行氦气检漏,标准漏率可达 1×10⁻⁹ std.cc/sec,满足半导体 UHV 超高真空腔体的密封指标,产品通过 ISO9001‑2015、AS9100D 质量体系认证,支持 RoHS、ITAR、DFARS 合规要求,适配半导体设备整机 OEM 配套。
产品分为单层结构与多层结构两大体系。单层款弹簧刚度低、柔性优异,适合低负载精密位移机构;多层膜片叠加结构提升耐压、抗爆能力,面向高压、高循环工况定制使用,可搭配法兰、接管、焊接底座加工成完整波纹管总成交付,减少客户二次机加焊接工作量。
2 核心材料体系与工况适配
针对薄膜设备不同工艺环境,BellowsTech 提供多组合金材质选型,适配等离子、卤素腐蚀气体、高低温交变工况。
316L/321/347 不锈钢:半导体真空设备通用基材,低释气,适合多数 PVD、CVD、刻蚀腔体;
Hastelloy 哈氏合金:抗卤素、腐蚀性工艺气体,适配刻蚀、反应薄膜沉积工艺;
Inconel 因科乃尔合金:耐高温氧化,面向高温薄膜制程;
钛合金:轻量化、耐强腐蚀,用于特殊特种真空与分析仪器设备。
工作温度覆盖‑240℃至 704℃宽区间,兼容深冷低温与高温工艺腔体;在狭小安装空间条件下,波纹管大行程可达到自身自由长度的 90%,伸缩能力为传统液压波纹管 3‑4 倍,满足薄膜设备腔体升降、阀杆往复运动的位移补偿需求;弹簧刚度低,不会对精密传动、探针机构带来额外机械阻力,保障运动定位精度,同时具备百万次级别疲劳循环寿命,降低设备备件更换频次。
3 在半导体薄膜设备的典型应用
PVD 物相沉积设备:腔体升降基座波纹管、靶材组件柔性密封,吸收热形变位移,维持镀膜腔体超高真空环境,避免杂质气体渗入,保障薄膜成膜均匀性。
CVD 化学气相沉积设备:真空闸阀阀杆密封、真空馈通组件,隔绝大气向工艺腔体渗漏,抑制零部件释气对薄膜材质造成污染。
刻蚀设备:机械手、探针伸缩波纹管总成,实现传动机构穿透真空腔体的气密运动,完成晶圆搬运、检测动作。
离子注入、电子束、质谱束线设备:束线管路位移补偿,吸收装配偏差与热胀冷缩形变,保护精密束流光路。
其它超高真空设备:真空腔体补偿接头、压力传感器隔离膜组件,用于科研镀膜设备、分析仪器腔体密封补偿。
4 关键技术参数
焊接工艺:超薄膜片边缘激光焊接
检漏指标:氦检漏≤1×10⁻⁹ std.cc He/s
膜片单层厚度:0.051mm 起
大行程:可达自由长度 90%
工作温度:‑240℃~704℃
结构形式:单层、多层复合结构
可选材质:316L、321、347、哈氏合金、Inconel、钛合金
性能特点:低弹簧刚度、无润滑、极低释气、百万次疲劳循环
5 选型与使用注意要点
根据实际真空等级确认氦检漏指标,UHV 超高真空工况优先选用全焊接无有机辅料总成;普通高真空工况可按需简化配置。
多层结构用于压差较高场景,单层结构优先用于需要低阻力精密位移机构。
需充分考量热胀冷缩带来的总位移量,不可超出波纹管允许大行程,避免膜片发生塑性变形,造成早期疲劳失效。
安装过程禁止对波纹管本体进行扭转变形,避免侧向过载,法兰装配受力均匀,防止局部应力集中损伤焊缝。
不同工艺气体环境匹配对应耐蚀合金,卤素腐蚀工艺不建议直接使用普通不锈钢材质,规避腐蚀泄漏风险。