产品名称：Olympus 奥林巴斯 物镜

Olympus 奥林巴斯 物镜 LMPLFLN10XBD

Olympus 奥林巴斯 物镜 LMPLFLN10XBD

规格参数

奥林巴斯 LMPLFLN10XBD 物镜搭载 10 倍标准放大倍率，配备行业通用的无限远校正光学系统，适配主流工业显微镜光路体系，契合工业精密成像的基础标准。设备数值孔径为 0.25，科学平衡成像分辨率与光线采集效率，既能清晰呈现样品整体微观形貌，也可捕捉表层细微结构，适配可见光常规观测波段。产品拥有 10mm 长工作距离，具备充足的操作空间，可适配厚型样品、带凹凸结构工件以及各类检测夹具，有效规避观测过程中镜头与样品的碰撞损伤。视场数达到 26.5mm，开阔视野可单次覆盖大面积样品区域，大幅减少载物台调节频次，提升批量检测作业效率。物镜采用专用标准螺纹接口，统一 45mm 齐焦距离，机械结构精密稳固，无复杂外置配件，结构简洁耐用，可长期稳定适配工业检测与实验室观测场景。

核心功能特性

这款物镜采用平场半复消色差专业光学设计，可校正可见光波段的色差、球差与场曲问题，有效改善观测过程中画面边缘畸变、色彩偏移、中心与边缘清晰度不均等现象，保障全视场成像平整均匀、画质统一细腻。设备集成明暗场双模式成像功能，明场模式可清晰还原样品表面纹理、形貌尺寸与组织结构，暗场模式可强化微小划痕、颗粒杂质、细微裂纹等低对比度缺陷的显示效果，提升缺陷检出能力。采用干燥系空气成像设计，无需浸液介质辅助观测，操作流程简洁，同时可避免介质污染样品表面。长工作距离结构不仅提升样品调试、对位操作的灵活性，也适配特殊工装检测场景。内部光学元件经过精密装配与严苛调校，光路光线损耗低、透光性优异，长期连续作业无光学参数偏移，成像性能稳定可靠。

主要应用范围

该物镜广泛应用于工业精密检测与材料科研领域，是工业显微检测的核心配套配件。在半导体行业中，主要用于晶圆、芯片封装器件、精密光刻结构的大范围初筛检测，可快速排查表面颗粒、微裂纹、表层瑕疵等常见缺陷。在电子制造领域，适配电路板、精密电子元器件、焊点、导电结构的微观观测，完成产品常规质量筛查与形貌分析工作。在材料科学领域，可对金属金相试样、陶瓷、光学玻璃、复合板材等各类硬质材料进行微观形貌观测，分析材料表层纹理与结构特征。同时适用于精密机械零部件、光学元件的表面检视，也可用于科研机构的样品前期定位与实验观测，适配多类场景下常态化的显微检测工作。