高斯摩分享--成像光学元件HOYA豪雅NBFD15‑W高折射率光学镜片

日期：2026-08-11 17:29

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摘要：光学玻璃是成像、机器视觉、半导体检测系统的核心基底材料，高折射率低色散玻璃可在有限空间内压缩镜头模组体积，校正色差与球面像差，实现小型化同时保障成像解析力。在 AR 光学、半导体外观检测、精密工业相机领域，既要实现高折射率，同时兼顾内部透过率、化学稳定性与批量抛光良率，对玻璃配方与熔炼工艺提出较高门槛。NBFD15‑W 属于重火石类光学玻璃，主打高折射率、低部分色散，广泛用于小型镜头、光谱检测、半导体机器视觉光学组件。 NBFD15‑W 经过特殊熔炼工艺，严控气泡、结石、条纹与铂金属杂质，材料内部均匀性高，应力...

光学玻璃是成像、机器视觉、半导体检测系统的核心基底材料，高折射率低色散玻璃可在有限空间内压缩镜头模组体积，校正色差与球面像差，实现小型化同时保障成像解析力。在 AR 光学、半导体外观检测、精密工业相机领域，既要实现高折射率，同时兼顾内部透过率、化学稳定性与批量抛光良率，对玻璃配方与熔炼工艺提出较高门槛。NBFD15‑W 属于重火石类光学玻璃，主打高折射率、低部分色散，广泛用于小型镜头、光谱检测、半导体机器视觉光学组件。

NBFD15‑W 经过特殊熔炼工艺，严控气泡、结石、条纹与铂金属杂质，材料内部均匀性高，应力双折射控制在较低水平，可满足工业光学系统对成像畸变的要求。配方优化稀土组分，在实现高折射率的同时维持较低色散，减少多波段成像下的色偏移；具备良好化学耐受性，耐酸耐潮湿，环境温湿度变化不易发生表面风化、雾斑，适配洁净车间、高低温循环工况，支持后续多层光学镀膜加工，AR 增透膜、分光膜均可实现稳定附着。

主要技术参数：

产品型号：NBFD15‑W
玻璃类别：重火石光学玻璃
折射率 nd：1.74950
阿贝数 νd：26.03
比重：3.02g/cm³
转变温度 Tg：538℃
热膨胀系数：88×10⁻⁷/℃
光谱透过区间：360‑2400nm
化学抗性：耐酸等级 2 级，耐潮等级 1 级
加工形态：毛坯料、模压预制件、成品球面 / 非球面镜片

该材料可加工成平凸、双凸、弯月、胶合透镜等多种形态，既可以制作传统研磨抛光镜片，也适配精密模压成型工艺，适合大批量光学元件生产。高折射率特性能够增大光线偏折角度，镜头设计时可以减少镜片数量，压缩镜头整体尺寸，实现设备小型化。较低的部分色散，有利于抑制二级光谱，提升宽波段成像的解析能力，降低彩色边缘伪影，提升检测设备识别精度。

完整加工流程包含玻璃毛坯切割、粗磨、精磨、抛光、清洗、镀膜、检测。毛坯内部条纹、气泡等级直接决定成品良率，NBFD15‑W 原厂管控内部缺陷等级，降低批量加工**率；抛光后表面可达到 λ/10 及以上面型精度，表面粗糙度可至亚纳米级别，满足半导体检测光学对散射损耗的控制要求。镀膜前需要完成严格脱脂清洗，保证膜层附着力，降低使用环境下膜层开裂、脱膜风险。实际使用工况建议控制温度‑40℃‑+60℃，避免快速温度冲击，防止镜片内部产生应力造成成像漂移。

对比常规 FD 系列火石玻璃，NBFD15‑W 在折射率、色散、化学稳定性之间实现平衡，不会因为追求高折射率而造成耐环境性能下降。既可以用于全新光学系统开发，也可用于现有镜头迭代升级，缩小光学模组体积，提升成像性能。可与镧系玻璃进行镜片胶合，进一步校正色差，优化全波段成像效果。

工业光学系统失效常见来源于玻璃内部条纹杂质、环境风化雾斑、膜层脱落，直接造成图像对比度下降、杂光增多。NBFD15‑W 依托熔炼工艺与配方优化，兼顾光学指标、化学稳定性与可加工性，为半导体检测设备、机器视觉镜头、AR 光学组件、光谱分析仪器提供稳定的光学基底解决方案。

该系列广泛应用于半导体外观检测镜头、工业机器视觉、光谱仪光学组件、AR 光波导基材、精密光学测量仪器、科研成像设备等场景。

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