日崎分享光学玻璃S-FPL51Y面向半导体光刻与光学系统的高性能材料

日期：2026-09-03 13:45

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摘要： i 线用高均匀性光学玻璃 S-FPL51Y：面向半导体光刻与光学系统的高性能材料在半导体光刻、精密测量与天文观测等光学应用中，光学玻璃的性能直接决定整个光学系统的成像质量与稳定性。随着光刻分辨率不断提高、曝光波长不断向紫外方向延伸，传统光学玻璃在紫外波段的透过率、均匀性与抗光老化能力逐渐成为系统性能的瓶颈。日本小原（OHARA）自 1935 年创立以来，长期专注于光学玻璃材料的研发与制造，其推出的 i 线用高均匀性光学玻璃系列，正是针对此类严苛应用开发的专用材料。其中，S-FPL51Y 作为该系列的代表型号...

i 线用高均匀性光学玻璃 S-FPL51Y：面向半导体光刻与光学系统的高性能材料

在半导体光刻、精密测量与天文观测等光学应用中，光学玻璃的性能直接决定整个光学系统的成像质量与稳定性。随着光刻分辨率不断提高、曝光波长不断向紫外方向延伸，传统光学玻璃在紫外波段的透过率、均匀性与抗光老化能力逐渐成为系统性能的瓶颈。日本小原（OHARA）自 1935 年创立以来，长期专注于光学玻璃材料的研发与制造，其推出的 i 线用高均匀性光学玻璃系列，正是针对此类严苛应用开发的专用材料。其中，S-FPL51Y 作为该系列的代表型号，凭借优异的紫外透过率、高光学均匀性与抗太阳化特性，为半导体光刻与近紫外光学系统提供了可靠的玻璃材料选择。

一、i 线高透过率，适配紫外波段应用

i 线（365nm）是半导体光刻与近紫外光学系统中的常用工作波长。S-FPL51Y 在 10mm 厚试样下，对 365nm 波长的内透过率可达 0.997，具有出色的紫外透过性能，能够有效减少光能在传播过程中的损耗，保障光刻曝光与紫外成像的能量效率。OHARA i 线玻璃系列整体在 365nm 波长的内透过率均高于 98%，为近紫外光学系统提供了系列化的材料选择空间。

二、高光学均匀性，保障成像质量

光学均匀性是衡量光学玻璃品质的重要指标，直接影响光通过材料后的波前质量与成像清晰度。S-FPL51Y 具备较高的光学均匀性保证等级，配合 OHARA 采用 He-Ne 激光干涉仪进行的高精度检测手段，可对毛坯材料的光学均匀性进行严格控制。这一特性对于光刻投影物镜、摄谱相机等对波前精度要求的光学系统尤为重要，有助于降低成像像差、提升系统分辨率。

三、低双折射与低应变，减小偏振与应力影响

光学玻璃在生产与加工过程中若残留应力，会产生双折射现象，进而影响光线的偏振状态与成像性能。S-FPL51Y 在退火工艺上进行了优化，通过延长退火时间以获得所需的均匀性等级，同时有效控制材料内部的应力与双折射水平。低双折射、低应变的特性，使其适用于对偏振敏感或对波前一致性要求较高的光学应用场景。

四、抗太阳化特性，保障长期稳定使用

长期受紫外光照射的光学玻璃，容易出现透过率下降的 "太阳化" 现象，影响系统的长期性能稳定。S-FPL51Y 经过配方与工艺优化，具备良好的抗太阳化性能，在持续紫外辐照条件下可保持透过性能的相对稳定，减少材料老化对系统性能的影响，降低维护与更换频率，适合需要长时间稳定运行的光刻与光学检测设备。

五、大尺寸毛坯供应，适配大型光学元件

针对大型光学系统的制造需求，OHARA i 线玻璃可提供*大直径约 300mm 的毛坯材料，配合高均匀性与低应力特性，可满足大口径透镜、棱镜等光学元件的加工要求。同时，该系列共包含 14 种 i 线玻璃类型，覆盖不同折射率与色散范围的牌号，用户可根据系统设计需要，在系列范围内选择合适的玻璃型号进行组合搭配。

应用前景

凭借 i 线高透过率、高光学均匀性、低双折射、抗太阳化与大尺寸供应等特点，S-FPL51Y 可广泛应用于半导体光刻设备的投影物镜与照明系统、天文观测用摄谱与成像光学、以及各类近紫外精密测量与检测系统。对于从事光学设计、半导体设备制造与精密光学加工的企业和研究机构而言，该玻璃材料为构建高性能光学系统提供了可靠的材料基础，有助于提升系统的成像精度与长期稳定性。

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