产品名称：EBARA荏原 干式真空泵

干式真空泵无需使用油或其他液体作为工作介质，因此在操作过程中不会产生油蒸气或油雾。这一特性不仅避免了油污染问题，还确保了工作环境的洁净度。在半导体制造和医药生产等对洁净度要求极高的行业中，干式真空泵的这一优势尤为重要。无油操作还意味着减少了油处理和更换的频率，降低了维护成本和停机时间。

干式真空泵的特点

干式真空泵通常具备良好的耐腐蚀性。由于在许多工业应用中，泵需要处理各种腐蚀性气体和化学物质，因此耐腐蚀性是一个非常重要的特性。干式真空泵采用耐腐蚀材料制造，能够在恶劣的化学环境中长期稳定运行，延长了设备的使用寿命。

干式真空泵的可靠性高，故障率低。由于其结构简单且无需油介质，干式真空泵的内部部件磨损较少，运行更加稳定可靠。高可靠性意味着更少的停机时间和更高的生产效率，这对于连续生产的工业流程尤为重要。

干式真空泵还具备良好的抽气速度和真空度。无论是高流量还是高真空度的需求，干式真空泵都能提供出色的性能。这使得它们在各种应用场景中都能胜任，从粗真空到高真空的广泛范围内都能保持高效的抽气能力。

干式真空泵的应用领域

干式真空泵凭借其无油、高效、环保等显著优势，在多个行业中得到了广泛应用。以下是干式真空泵在一些主要行业中的具体应用实例。

在半导体制造行业中，干式真空泵的应用至关重要。半导体生产过程中需要极高的洁净度和**的真空环境，以避免任何微小的污染影响芯片的质量和性能。干式真空泵在晶圆加工、薄膜沉积、离子注入和光刻等关键工艺中发挥着重要作用。例如，在化学气相沉积（CVD）过程中，干式真空泵能够有效去除反应气体和副产物，确保薄膜的均匀性和纯度。此外，干式真空泵在蚀刻工艺中也广泛应用，通过提供稳定的真空环境，确保蚀刻过程的**控制和高效进行。