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产品详情
  • 产品名称:MISAKA米卡萨 显影和蚀刻设备

  • 产品型号:ED-1200
  • 产品厂商:MISAKA米卡萨
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简单介绍:
显影和蚀刻设备是半导体制造和微电子加工中的核心工艺装备,主要用于图形转移和微纳结构加工。
详情介绍:

掩模对准器
Opticoat 涂层

■ 手动型接触式掩模对准器。
■ 可用于尺寸不规则的基板、硅、玻璃、化合物、薄膜等各种材料。
■ 根据您的预算和应用,我们提供三种类型的曝光
光源:准直器型、多镜型和积分器型。
■ 我们有支持*大 5×5mm~100×100mm 和 φ6 英寸的基板的型号。
■ 更换面罩架和标本台很容易,使其成为研发应用的理想选择。
■ 对准范围物镜有三种类型
:4×、10× 和 20×具体取决于高对准和薄膜厚度等应用。

聚氯乙烯 转速 0~3,000转/分

基板尺寸

φ1“~φ6”
(150×150mm)
联 锁 真空吸附确认传感器
加工腔盖联锁
喷嘴移动超限
限制器

化学泵送

内置泵使用

化学品排放

喷雾排放
(摆动喷嘴型)
权力 交流 100V 4A
尺寸 (mm) 当门打开时
550W×440H×400D
740H

步数

96 步
跳拷贝功能
程序模式 10 模式 重量 33 千克
工艺(标准) 显影剂:1 行,
漂洗:1 行,
背洗:1 个系统
关键选项 化学温度管理系统
(加压法)
各种基板支架
安装工作台
使用的化学品 酸基蚀刻剂


MA-10B、MA-20、MA-60F、M-1S、M-2LF、旋转涂布机
MS-B100、MS-B150、MS-B200、MS-B300、MS-B200(密封)、MS-B300(密封)显影刻蚀装置


代理品牌:CCS晰写速 SEN日森、EYE岩崎、REVOX莱宝克斯、SERIC索莱克

SONIC索尼克、SANKO三高、NEWKON新光、NPM日脉  、SUGIYAMA杉山
NS日本科学、DRY-CABI东利繁、TOKISANGYO东机、SIBATA柴田 
优势品牌:USHIO牛尾、TOPCON拓普康、FUNATECH船越龙、ORC欧阿西、 HAYASHI 林时计
SAGADEN嵯峨、SAKAZUME坂诘、DNP大日本科研、TOKYO DENSHOKU电色、KKIMAC
S-VANS斯万斯、ORIHARA折原、LUCEO鲁机欧、HIKARIYA光屋、YAMADA山田光学
AND艾安得、T&D天特、JIKCO吉高、DKK-TOA东亚电波、OKANO冈野
IMV艾目微、MITUTOYO三丰、KYOWA共和、ONOSOKKI小野、SANEI三荣
HEIDON新东、KURABO仓纺、SHOWA昭和、THINKY新基
SURUGA骏河、ACCRETECH東京精密、SANSYO三商、ITOH伊藤
RKC理化、MACOME码控美、EIWA荣和、EXCEL艾库斯、YODOGAWA淀川等
优势产品:日本紫外线照度计、紫外线装置灯管、LED视觉光源、表面检查灯、手持检测灯
变色灯箱、色差仪、卤素光源装置、应力表面检查仪、LED光源机、电子天平、粘度计、膜厚计,恒流泵、采样泵、PH计、水分计、
地震测试仪、脱泡搅拌机、压力传感器、气体检测仪,接近开关、拉拔机、异音检测仪、下死点检测装置

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