产品名称：HORIBA 堀场 化学浓度分析仪

HORIBA 堀场 化学浓度分析仪 CS-1000

HORIBA 堀场 化学浓度分析仪 CS-1000

规格参数

CS-1000 为独立机柜式设计，尺寸 700mm×610mm×1640mm（宽 × 深 × 高），重量约 200kg，适配 AC 190–240V、50/60Hz 电源，功耗约 355VA。测量原理整合紫外 - 可见 - 近红外吸收光谱法、双电极法与玻璃电极法，可同步检测浓度（多 8 成分）、电导率、pH 三项参数，检测下限达 ppm 级，无需样品预处理。设备配备 2 路完全隔离的独立流路，可同时测量两种不同化学药液，每路支持 6 个量程设置，数据更新周期*短 6 秒。接液材质采用 PFA、PTFE 与石英，耐腐蚀且离子析出极低，适配半导体严苛洁净要求。通信接口丰富，支持 EtherCAT、PROFIBUS、RS-232 及 4–20mA 模拟输出，便于接入工厂自动化系统。整机通过 SEMI S2、CE、FCC、UKCA 认证，适配半导体生产环境规范。

核心性能特点

这款分析仪的核心优势在于多技术融合的高精度检测能力，通过吸收光谱、电导率与 pH 信号交叉验证，结合堀场自研算法，有效解耦复杂基体干扰，无需化学试剂即可精准分析多成分混合药液，尤其适合 BEOL 制程中的微量杂质监控。2 路独立流路设计实现一机双用，完全隔离的液路避免交叉污染，可同步监测不同工序药液，大幅提升设备利用率。非滴定无试剂架构彻底告别传统滴定法的试剂更换与废液处理，仅需定期更换光源与 pH 电极内液，每半年维护时长约 4 小时，维护成本与停机时间显著降低。快速响应与长期稳定兼顾，6 秒极速数据更新满足工艺实时调控需求，全不锈钢机柜坚固耐用，接液材质耐酸碱腐蚀，适配显影液、蚀刻液、清洗液等多种半导体药液，长期运行漂移小、可靠性高。

主要应用用途

CS-1000 聚焦半导体湿法工艺核心场景，广泛应用于晶圆制造的清洗、蚀刻、显影等工序，适配 SC-1、SC-2、SPM、高温磷酸等多种混合药液的浓度监控。在 BEOL 制程中，用于监控多层布线工艺中的微量添加剂与杂质浓度，保障制程稳定性与良率。可部署于清洗机、蚀刻机、显影机等设备旁，作为在线监测单元，实时反馈药液浓度、电导率与 pH 变化，联动加药系统实现自动配比，降低药液消耗与废品率。同时适配半导体科研实验室、中试生产线的药液分析需求，为工艺研发与参数优化提供精准数据支撑，是半导体湿法工艺质量控制的核心设备。