产品名称：Olympus 奥林巴斯 物镜

Olympus 奥林巴斯 物镜 LMPLFLN20XBD

Olympus 奥林巴斯 物镜 LMPLFLN20XBD

规格参数

奥林巴斯 LMPLFLN20XBD 物镜采用 20 倍放大倍率，搭载无限远校正光学系统，符合工业显微镜通用光路标准，适配可见光观测波段。数值孔径配比合理，兼顾解析能力与通光量，能够清晰呈现样品中等尺度的微观细节与表层结构。产品拥有充足的长工作距离，镜头与样品之间预留出宽裕空间，可适配厚型试样、带有凹凸结构的工件以及各类检测夹具，有效规避镜头与样品发生碰撞。视场数表现优异，单次观测可覆盖较大面积区域，减少载物台反复调节，提升批量检测效率。物镜配备标准螺纹接口，统一 45 毫米齐焦距离，同系列物镜切换后无需重新对焦，整体机械结构加工精密、造型简洁稳固，可在工业生产车间、质检实验室等场景中长期持续运行。

核心功能特性

这款物镜采用平场半复消色差光学设计，可校正可见光波段的色差、球差与场曲问题，改善画面边缘畸变、色彩偏移、清晰度不均等现象，确保整个视场成像平整均匀，中心与边缘画质保持一致。设备支持明场、暗场双模式切换，明场模式可真实还原样品表面纹理、整体形貌与组织结构，暗场模式能够增强低对比度区域的视觉效果，让细微划痕、颗粒杂质、微小裂纹等缺陷更加容易辨识。产品为干燥系结构，无需搭配浸液介质，操作步骤简单，同时避免样品受到污染。长工作距离提升了样品对位、调试的灵活性，可适配多种检测工况。内部光学组件经过精细装配与调校，光路损耗低、透光效果好，长时间连续作业也不会出现光学参数偏移，成像状态始终稳定。

应用范围

该物镜广泛应用于工业检测与材料科研相关领域，在半导体行业中，多用于硅晶圆、芯片及封装器件的中等倍率检测，排查表层瑕疵、微小裂纹与颗粒杂质等问题。在电子制造领域，可对线路板、精密元器件、焊点结构开展微观检视，完成常规质量筛查与工艺状态分析。在材料研究方面，适用于金属试样、陶瓷、光学玻璃、复合板材等材料的微观形貌观测，分析表层纹理与内部结构特征。同时也可用于精密机械零部件、光学元件的表面检测，以及科研机构的实验观测、样品细节分析等工作，满足多类样品中等倍率常态化显微检测的需求。