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产品详情
  • 产品名称:笠原理化过氧化氢检测仪

  • 产品型号:H2O2-V2
  • 产品厂商:KRK笠原理化
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简单介绍:
H2O2-V2 是 KRK 笠原理化针对硫酸铜镀铜槽液打造的中浓度过氧化氢检测设备,依托吸光光度法完成测定,不受铜、镍、铁等金属离子基质干扰。设备分辨率细致,自带整机自诊断功能,电池供电可脱离现场电源巡检,校准流程简单,单次检测耗时短,适配电镀车间现场取样与实验室试样分析。
详情介绍:


高浓度槽液专用|笠原理化硫酸浓度测定仪H2SO4-55

高浓度槽液专用|笠原理化硫酸浓度测定仪H2SO4-55


1. 产品规格参数
H2O2-V2 为适配电镀体系中浓度双氧水检测的专业测定仪器,采用标准化吸收光度检测原理,专门针对硫酸铜镀铜溶液完成算法优化,屏蔽镀液内各类金属离子带来的数据干扰。设备标准检测量程 0~1200mg/L,显示分辨率可达 1mg/L,满量程重复性误差控制在 ±5% 以内,可覆盖常规 PCB、装饰五金镀铜产线的过氧化氢工艺配比区间,样品无需稀释即可直接上机测定。设备搭载恒定 LED 光源,开机 5 秒完成光源稳定,单次完整检测时长约 1 分钟,检测数值锁定留存 5 秒后设备自动断电,降低电池电量损耗。整机采用 4 节 7 号碱性电池直流 6V 供电,机身外形尺寸 88×174×65mm,整机重量约 310g,一体化小型手持造型,单人即可携带完成多产线巡回取样。仪器内置完整自诊断程序,可识别低电压、校准失效、光源衰减三类异常状态并弹窗提示,支持基础零点校准与标准液跨度校准两种标定模式,硬件配置完全匹配电镀行业每日常态化取样检测规范。
2. 核心产品特点
本款设备核心优势集中在抗基质干扰、高精度检测与现场移动作业适配三大维度。设备摒弃传统化学滴定检测模式,搭配配套检测试剂即可完成光度测定,仪器直接输出直观过氧化氢浓度数值,省去人工换算、配比滴定等步骤,大幅降低人为操作带来的数据偏差。检测算法针对电镀混合镀液专项调校,可屏蔽铜、铁、镍、铬等常见金属离子对检测信号的干扰,各类常规酸性镀铜配方槽液均可稳定测定,无需调整设备参数。整机轻量化手持结构搭配独立电池供电设计,生产线各工位均可巡回抽检,不受车间供电布线、插座点位限制,狭小产线空间也能灵活操作。设备搭载多重自检机制,能够提前识别光源老化、电量不足、校准失效等异常问题,避免无效检测造成试剂与镀液样品损耗,日常仅需零点标定即可满足多数工况需求,操作人员无需深厚理化专业知识即可快速上手。LED 光源损耗平缓,长期连续批量检测无明显数值漂移,检测重复性稳定,适配工厂高频次、大批量试样筛查工作。

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