产品名称：电极自动化学清洗OHKURA大仓清洗装置

电极自动化学清洗单元 OHKURA 大仓清洗装置

电极自动化学清洗单元 OHKURA 大仓清洗装置

（一）产品规格参数

SP4200C 采用成套模块化架构，主要由控制箱、清洗执行机构、电极支架、药剂储罐组成，各单元独立布置，适配现场不同安装空间。控制箱体内部集成时序控制电路与电磁阀组件，负责统筹测量阶段与清洗阶段切换，各类周期时长可自定义配置。清洗执行机构配备电动升降支架，收到控制信号后抬升电极，在电极周边形成密闭空间，便于清洗药剂充分浸润。整机适配工业标准供电条件，配套管路与接头具备良好耐药液腐蚀能力。装置支持外接 pH/ORP 检测电极组合使用，可选配保持放大器组件，清洗过程锁定测量输出信号。整套设备布局兼顾浸入式、流通式电极安装场景，外壳防护结构可抵御现场水汽与粉尘，能够长期连续循环运行。

（二）核心功能特点

SP4200C 依托化学溶垢方式**电极表面附着水垢，解决高杂质水体工况下电极结垢、响应变慢、测量漂移等问题，弥补物理冲洗手段的局限性。整套清洗流程全自动运行，按照设定周期依次完成药剂注入、鼓泡浸润清洗、药剂回收，药剂可回收重复利用，降低耗材消耗。升降支架结构保证药剂集中作用于电极感应区域，提升清洗效果，避免药液大范围扩散污染工艺流体。时序程序灵活可调，用户可根据水体结垢速率设定清洗频次与单次清洗时长。选配信号保持组件后，清洗期间维持原有测量输出，避免后端控制系统误动作。设备具备稳定的运行逻辑，减少人工拆卸电极清洗频次，降低现场运维工作量，延长电极使用寿命。

（三）应用用途

SP4200C 配套工业在线 pH/ORP 监测电极使用，主要用于水体易产生结垢沉积的测量工况，广泛应用于烟气脱硫系统、工业废水处理设施、化工反应槽、循环水处理装置等场景。持续在线监测工况中，水体矿物质容易在电极表面形成水垢，造成测量精度下降，该装置周期性自动清洁电极，保障水质数据持续稳定。适合长时间不间断运行、不便频繁停机拆装维护的产线环境。装置可与 SH 系列 pH 分析仪成套联动运行，实现测量、清洗一体化自控方案，既能够单机独立完成电极维护作业，也可整合至整套水质监控系统，为工艺流体理化指标稳定监测提供支撑。